牵涉2nm芯片窃密案 日本KEL社长密会台积电CEO谢罪
9月10日消息，前不久引发关注的台积电2nm工艺技术遭窃取一案已经真假，9人涉案，有3人获罪7-9年不等。
这起案子中最引人关注的就是日本KEL威力科创也牵涉了进来，被判14年的主犯陈某从台积电离职之后加入了这家公司，正是他联系台积电的前同事拍摄上千张涉及2nm工艺的照片。
不过威力科创此前表示已开除该员工，并撇清与窃密案的关系，表示经该公司内部调查，截至目前未发现相关机密信息外泄至第三方，亦未发现有组织性地指示该名前员工获取不当信息的行为。
然而这也没法完全洗清他们的嫌疑，此前该公司已经派高管前去台积电负荆请罪，上月底传出还会再派社长拜会台积电高层，再次请罪。
这两天借着半导体展会的机会，KEL社长河合利树缺席了已公布行程的公开活动，选择去新竹拜会台积电CEO魏哲家，两人私下会谈，内容不会公开。
预计它会针对此前的2nm窃密案亲自向台积电表达歉意，并提出善后方案，只是具体的措施没有公布。
KEL是全球TOP级半导体设备商，台积电是其关键客户之一，两家合作数十年，也不太可能因为此事断绝关系，预计还是会从商业利益角度做些弥补，采购刻蚀设备打折之类的，毕竟台积电的2nm工艺也需要先进的刻蚀机。
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