日本三大EUV光刻胶巨头扩产，决战2nm工艺制程高地
进入5纳米制程节点后，EUV工艺已成为无法绕开的关键技术。目前全球仅有荷兰ASML公司能够生产EUV光刻设备，但日本在EUV光刻胶领域却展现出显著优势。面对2纳米及更先进制程的需求，日本三大化工巨头正在积极扩大产能布局。
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日本半导体材料厂商东京应化工业日前宣布，将投资200亿日元在韩国平泽建设光刻胶工厂，预计2030年正式投产。这项约合1.3亿美元的投资计划，标志着日本企业在全球半导体材料市场的战略布局。
平泽作为三星、SK海力士等韩国半导体企业的重要生产基地，新工厂投产后将使东京应化在韩国的产能提升三到四倍，更好地满足客户需求。
此外，东京应化还计划在韩国追加投资120亿日元建设高纯度化学品工厂，同样采用先进半导体工艺。这一系列举措被业界视为日本厂商为抢占2纳米及更先进工艺市场所做的战略准备。
同为EUV光刻胶巨头的JSR公司也将在韩国投资建设MOR型光刻胶工厂，并计划在明年年底实现量产。
百年企业阿德卡也宣布在日本本土进行产能扩张，将投入32亿日元建设MOR型光刻胶工厂，预计2028年4月实现规模化生产。
MOR型光刻胶以金属氧化物为基础，是专为EUV光刻工艺研发的新一代材料。目前日本国内也在积极建设相关研发和生产体系。
在半导体材料领域，尤其是光刻胶方面，日本企业长期占据全球90%以上的市场份额。虽然本土尚未建立2纳米芯片生产线，但这些企业通过海外布局展现出对未来先进工艺的坚定决心。
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