iPhone 20周年将迎来无孔真全面屏，Face ID藏于屏下
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2027年将迎来iPhone问世二十周年，这个里程碑式的时刻对苹果而言具有特殊意义。回顾发展历程，2007年首款iPhone由乔布斯亲自发布，开启了智能手机的全新时代；2017年，iPhone X横空出世，确立了全面屏交互模式，推动苹果正式迈入全面屏纪元。
正值iPhone诞生二十周年的重要节点，业界普遍预期苹果将推出具有突破性创新的换代产品，再次引领智能手机行业的发展趋势。据消息人士透露，苹果计划为这款纪念机型配备3D屏下人脸识别技术与屏下摄像头方案。这一设计意味着新机将实现真正的全面屏形态，成为苹果首款取消刘海、完全消除屏幕挖孔的智能手机。
要实现这一目标，技术关键在于如何将Face ID的识别模组完整集成于屏幕下方，同时确保显示质量不受影响，并维持高精度的生物识别能力。此前披露的多项相关专利显示，苹果已通过结构创新，调整屏幕子像素排列布局，使红外光能够有效穿透屏幕盖板，从而支持屏下3D人脸识别系统的稳定运行。
此外，这款二十周年机型预计还将搭载基于台积电2纳米制程打造的全新芯片，其性能表现有望实现显著提升，为设备带来更强大的运算能力和能效表现。
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