英特尔新一代散热技术：芯片封装集成散热器性能提升70%
11月12日，据行业媒体报道，英特尔的研究团队正致力于为采用先进封装技术的芯片开发更具经济效益且高效的散热解决方案。
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在英特尔最新发表的一篇研究论文中，其代工部门的工程师提出了一种名为“集成散热器分解式设计”的全新方案，不仅显著提升了封装制造的经济性与工艺友好度，更能为高功率芯片提供更卓越的散热性能。
该方法特别适用于采用多层堆叠与多芯片封装的结构，能够将封装翘曲降低约30%，并使热界面材料的孔隙率减少25%。
同时，这一技术还能帮助英特尔突破传统制造工艺的限制，开发出“超大尺寸”先进封装芯片，有效避免因制造成本过高而导致技术路线搁浅的困境。
英特尔将集成散热器分解为多个结构简单的独立组件，这些组件可通过标准制造工艺进行快速组装。通过优化粘结剂配方、改进平板设计并强化加固件结构，热界面材料的整体性能得到进一步改善。
随着芯片设计日益复杂、封装尺寸逐步突破7000mm²的限制，传统集成散热器因需要加工复杂的阶梯型腔体和多接触区域而面临工艺难度高、成本攀升的挑战，此时新方法的优势尤为显著。
该分解式设计还能将封装共面性提升约7%，使芯片表面更为平整。这项研究对于英特尔未来依托其先进工艺与封装技术，开发超大尺寸封装芯片具有关键支撑作用。
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