台积电14A制程获客户认可，High-NA EUV量产突破

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12月3日，业内人士透露，英特尔在推进中的14A制程节点取得了实质性进展，并已赢得两家潜在代工客户的积极反馈。作为其代工业务的核心项目之一，该节点目前正处于与客户协同开发阶段，使合作方能够提前验证技术方案是否满足未来产品在性能与能效方面的要求。

多位知情人士指出，通过与多家接触过14A节点的客户交流，各方对该制程的研发进度均表示高度认可，反馈普遍积极。这一节点不仅有望在传统数据中心和PC应用领域保持竞争力，还可能进一步拓展至移动芯片市场，标志着企业在代工战略上的重要延伸。

值得注意的是，尽管英特尔尚未正式发布14A节点的0.5版PDK，但已有信息显示其技术路径获得客户肯定。该节点建立在18A工艺量产经验的基础上，并进一步优化演进，尤其在关键光刻环节引入High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻）技术，致力于成为全球首家实现该技术落地的厂商。

在代工生态中，客户对产能分配的透明度与供应链安全尤为关注。多方交流结果显示，潜在合作方普遍强调必须确保晶圆产能分配的可预期性和公平性。为此，英特尔已规划采用ASML Twinscan EXE:5200B双工位光刻系统，其理论产能可达每小时200片晶圆，具备支撑大规模生产的能力。

此前数据显示，英特尔单季度已完成超3万片晶圆的处理任务，同时在部分关键制程层将工艺步骤由原先的40道缩减至不足10道，显著提升了生产效率并缩短了整体制造周期。后续进展将持续受到行业关注。