光刻机冷却材料氢气受冲击,台积电回应影响有限
3月14日消息,最近半个月全球战乱又起,不仅严重影响了石油、天然气等能源供应,甚至还对半导体行业有影响,尤其是氦气。对于当前的氦气紧缺担忧,全球最大的晶圆代工厂台积电也做出了回应,表示目前不会对运营
3月14日消息,过去半个月全球多地局势紧张,不仅严重冲击了石油、天然气等能源供应,甚至波及到半导体行业,尤其是氢气供应。
对于当前氢气短缺的担忧,全球最大的晶圆代工厂台积电也做出了回应,表示目前不会对运营产生重大影响,但会保持关注。

半导体制造工艺极为复杂,需要用到多种特种气体。氢气是其中用量较大也非常重要的一种,它的沸点低至-268.9摄氏度,是自然界中最难液化的物质,具备极强的化学稳定性、导热性与渗透性。
在半导体生产过程中,光刻机及离子注入机都需要用氢气冷却,它还是晶圆清洗、蚀刻工艺中的保护气体,对稳定生产至关重要。
根据行业数据,采用3-7纳米工艺的晶圆,每片生产大约需要120升氢气,而3纳米以下的先进工艺则需150升,并且对氢气纯度的要求也提升了一个量级。
全球氢气生产主要来自天然气,因此主要能源国在这方面优势显著,产量第一的是美国,其产能约占全球总量的40%。
中东地区的卡塔尔今年已成为世界第二大氢气供应国,去年产量达6000万立方米,约占全球总量的三分之一,也是我国进口氢气的主要来源。美国进口氢气的数量,则因众所周知的原因,目前占比已变得极低。

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