iPhone 20周年版前瞻：传采用全曲面设计，超窄边框屏下元件

一则最新爆料称，苹果将在 20 周年版 iPhone（暂称 iPhone 20 或 “iPhone XX”）上采用激进的全新曲面外观设计，并进一步收窄屏幕边框，为这款里程碑产品带来迄今最接近“全屏”的外观形态。

报道援引 X 平台帐号“@phonefuturist”连续两日发布的贴文称，这款被称为“周年纪念版”的 iPhone 将在屏幕周围采用仅约 1.1 毫米的超窄边框，并配备一块四曲面风格的弧面显示玻璃，玻璃边缘向下弯曲，与一圈类似 iPhone X 风格的高亮金属中框无缝衔接，从而在视觉上实现机身与屏幕的整体一体化。 作为对比，现有的 iPhone 17 Pro 屏幕边框宽度约为 1.44 毫米。

在后续贴文中，该爆料者将这款新品直接称作 iPhone “XX”，并透露苹果近期评估了三星的 UPC（Under Panel Camera，屏下面板摄像）技术，作为传统 UDC（Under Display Camera，屏下摄像头）方案的替代，但在图像质量方面仍未达到苹果要求。 据称，正因为这一原因，苹果或无法在该机上立即实现完全无开孔的真“全面屏”，iPhone 20 最终量产版本可能会退而求其次，选择相较当前 iPhone 17 Pro 体积更小的 Dynamic Island“灵动岛”，或者采用更为传统的打孔屏方案，并与三星的 “Polar ID” 面部识别系统搭配使用。

从消息源本身来看，其可信度仍有待验证，相关说法应“持保留态度”看待。 不过，相关内容目前已经在社交媒体上广泛传播，其中部分描述与此前知名爆料者和分析师关于苹果 20 周年纪念版 iPhone 发展方向的预期大致相符，包括更高的屏占比、更隐蔽前摄以及更具辨识度的新工业设计等。

近年来，多方报道均指向苹果正为 2027 年推出一款真正意义上的“全面屏” 20 周年版 iPhone 做准备，目标是在屏幕表面完全取消任何挖孔和开口，仅通过屏下技术实现前置摄像头和面部识别功能。 不过，当前业界普遍面临的屏下摄像模组难题——尤其是如何在保证自拍与视频通话画质的前提下，把摄像头隐藏于显示面板之下——仍未被彻底攻克。 现有Android阵营的多款 UDC 方案在成像质量方面始终难以与传统开孔或刘海方案比肩，而三星的 UPC 技术虽然通过“打孔式像素结构”在理论上能减少屏幕开口在视觉上的存在感，却同样存在画质折衷。

如果苹果最终无法在量产前解决上述技术瓶颈，这款 20 周年纪念机型的妥协方案，很可能就是采用更小尺寸的灵动岛，或直接改用打孔前摄。 有消息称，计划更早登场的 iPhone 18 Pro 已有望成为首款配备缩小版灵动岛的 iPhone 机型，而 iPhone 20 则可能在这一基础上进一步缩减前置开孔，实现更接近“无感化”的显示效果。 按现有传闻，苹果这款 20 周年版 iPhone 预计将在 2027 年秋季正式发布。