荷兰反对美国限制对华出口DUV光刻机

美国国会近期提出一项名为《硬件技术控制多边协调法案》（Match Act）的新提案，目标直指光刻机巨头ASML在中国的业务运营。这项由两党议员联合推动的法案意图明确：不仅计划进一步限制ASML向中国客户销售浸润式深紫外光刻机（DUV），还试图禁止其为在华已安装的设备提供售后维护与技术支持。

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此举若得以实施，相当于试图彻底关闭ASML在中国市场的业务通道。

面对美方的持续施压，荷兰政府此次作出了明确回应。荷兰外贸与发展合作大臣舍尔茨玛在5月12日公布的书面答复中，向美国立法者清晰表达了反对立场。争议的核心在于法案的“域外管辖”效力——荷兰方面认为，这种单方面将本国法律效力延伸至他国企业的做法，已超越合理界限。

舍尔茨玛指出了实质性的担忧。他表示，如此宽泛的限制措施，其影响将远超ASML单一企业。它可能对包括荷兰公司在内的全球半导体行业营收造成显著冲击，削弱相关企业的国际竞争力。更深层的影响在于，此类措施将破坏全球贸易与投资环境的可预期性与稳定性，令所有市场参与者面临不确定性。

关键在于原则：各国固然有权自主制定出口管制政策，但此事涉及主权范畴，不应由某一方通过立法手段代为决定。

目前，ASML最先进的极紫外光刻机（EUV）早已被禁止对华出口，浸润式DUV成为其仍可向中国供应的最关键产品线。若美国此项法案按现有版本通过，ASML将基本退出中国市场，甚至已交付设备的后续维护都可能面临中断。这对于任何一家立足全球市场的企业而言，都是难以承受的经营压力。

值得关注的是，荷兰方面已将此事提升至最高外交层级进行沟通。舍尔茨玛透露，在上月荷兰王室访问美国期间，荷兰首相、外交大臣及贸易部门负责人已向美方当面传达了明确反对意见。然而，截至目前，美国国会尚未对此作出正式回应。

这场围绕尖端半导体制造设备出口的博弈仍在持续。一方是美国试图延伸的“长臂管辖”，另一方则是欧洲盟友对商业利益与规则自主权的坚持。最终结果不仅将影响ASML的全球业务布局，更可能成为全球科技供应链规则演变的关键风向标。