美国限制DUV光刻机出口 ASML总裁称中国自研加速关乎存亡
5月21日，在比利时安特卫普的一场科技活动上，ASML首席执行官克里斯托夫·富凯面对媒体，就美国不断加码的对华芯片限制措施，给出了一个颇为形象的回应。
他没有直接谈论复杂的供应链或技术参数，而是打了个比方：“想象一下，如果把你丢进沙漠，并且告诉你从此再也得不到任何食物补给，你需要多久才能自己开垦出一片菜园？这已经无关竞争，而是生存问题。”
这个比喻的指向性非常明确。富凯的言下之意是，美国层层加码的出口管制，正在产生一种与初衷相悖的“激励”效果：限制越严苛，中国自主研发替代技术的决心和动力就越强，进程也可能被推得越快。
这种压力并非空xue来风。就在今年4月，美国国会提出了《硬件技术控制多边协同法案》（即MATCH法案），意图强制其盟友跟随美国的步伐，收紧对华出口管制。该法案甚至计划将ASML所有型号的浸润式DUV光刻机都纳入限制范围。此举已经引发了荷兰政府的正式抗议。
富凯进一步解释道，ASML目前获准向中国客户出售的DUV设备，其技术基础实际上源于2015年。这意味着，即便进一步收紧限制，对中国现有的芯片制造能力也难有实质性的削弱。相反，它更像是一剂催化剂，只会让中国在自主研发的道路上跑得更快、更坚决。
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