美国商务部担忧ASML高端光刻机可能流入中国
美国商务部担忧ASML的极紫外光刻机可能通过第三国转口等方式绕过出口管制流入中国。ASML反驳称其产量极为有限且需持续专业维护才能正常运行，并强调从未向中国出售过任何EUV设备或相关部件。
此事颇具深意。路透社于6月18日披露的一则消息，将美国与荷兰之间围绕光刻机设备出口的“暗战”公之于众。美国商务部长霍华德·勒特尼克近期会晤了荷兰光刻机巨头ASML的高层，会谈内容直指核心——美方怀疑，一台由ASML制造的顶级芯片制造设备，可能已绕过美国的出口管制，流入中国。该消息最初由彭博社曝出。
报道明确指出，勒特尼克在与ASML高管的会谈中，直接表达了这一担忧。然而，ASML方面并未示弱，当场予以反驳。其理由颇为“强硬”——公司强调，用于生产超微细芯片电路的极紫外（EUV）光刻系统，本身产量极为有限，并且这些设备在整个生命周期内，均需依赖ASML工程师的持续维护才能正常运行。换言之，设备的流向高度可控，很难在无声无息中“流失”。
那么，ASML的底气源自何处？不妨审视一下这台设备的分量。据报道，ASML最先进的EUV系统，体积堪比一辆校车，重量约达180吨。在高端芯片制造产业链中，它无疑是核心中的核心，也是当前被视为“卡脖子”的关键装备。彭博社援引一位ASML发言人的话，其表态十分绝对：“ASML从未向中国出售过任何一台EUV光刻机，也从未向中国出口过任何专为EUV设备设计的部件、模块或设备。”
话说回来，针对这篇报道的具体说法，美国商务部、ASML以及白宫在路透社常规工作时间之外被联系时，均未立即作出回应。值得一提的是，路透社自身去年12月曾报道过另一则消息：中国的一个科研团队，在多名ASML前工程师的参与下，已成功研发出了一套EUV原型机。当时，这一事件被业内形容为中国在高端芯片制造领域的一次“曼哈顿计划”式的攻关。
将这两件事联系起来看，局势显然远非表面那般简单。
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