屹唐科技起诉应用材料侵权，索赔9999万捍卫核心技术

8月13日晚间，国内半导体设备企业屹唐股份发布公告称，公司已正式向北京知识产权法院提起诉讼，目前案件已获受理，正在等待开庭审理。

此次诉讼的起因是应用材料公司（AMAT）非法获取并使用了屹唐股份在等离子体源及晶圆表面处理领域的核心技术秘密，并在中国通过专利申报的方式公开了相关技术，构成了商业秘密侵权。

屹唐股份请求法院判令被告立即停止获取、使用其技术秘密，并赔偿经济损失及维权合理支出共计9999万元。

公司表示，提起此次诉讼旨在保护创新成果与知识产权，维护企业合法权益，预计不会对正常经营造成重大不利影响，最终结果将取决于法院审理进展。

据屹唐股份公告披露，公司核心技术之一是利用高浓度、稳定均匀的等离子体进行晶圆表面处理，该项技术已广泛应用于旗下干法去胶、干法蚀刻、表面处理及改性等半导体加工设备。

公司在该技术方向拥有原创性研发能力和长期积累的技术秘密。

起诉书指出，被告应用材料公司曾招聘两名曾在原告全资子公司Mattson Technology, Inc.（简称“MTI公司”）任职的员工。

这两名员工在职期间掌握屹唐股份等离子体产生与处理方法的核心技术，熟悉相关设备结构及工艺流程。

在MTI公司工作期间，两人均签署了保密协议，承诺对包括涉案技术在内的信息履行严格保密义务。

证据显示，二人入职应用材料后，以主要发明人身份向中国国家知识产权局提交了发明专利申请，其中公开的内容涉嫌侵犯原告与MTI公司共同拥有的技术秘密。

屹唐股份指出，被告通过非法手段获取并利用原告技术，并在中国境内以专利申请方式予以公开，将申请权据为己有，此举违反《中华人民共和国反不正当竞争法》，构成商业秘密侵权，严重损害了原告的知识产权和经济利益。

调查还发现，被告疑似将采用涉案技术的产品向国内客户进行推广销售，进一步加剧了对原告商业秘密权益的侵害。

公开资料显示，美国应用材料公司成立于1967年，主要专注于半导体芯片制造设备的生产，覆盖薄膜沉积、刻蚀、曝光显影、化学机械抛光等关键工艺环节。

2024年，该公司营业收入突破250亿美元，仅次于阿斯麦（ASML）的300亿美元，是全球第二大半导体设备供应商。