Intel 18A工艺量产在即,14A发展路径引关注

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Intel计划在今年底开始量产18A工艺,这是该公司首款采用GAA结构的晶体管制造工艺。即将到来的2026年将是一个关键节点,因为届时将决定下一代14A工艺的未来走向。
此前,Intel CEO陈立武曾表示,如果在2026年之前无法获得大客户的订单,公司可能不会推进14A工艺的建厂计划。这番言论引发了外界对Intel是否会放缓先进制程发展的猜测。但另一方面,Intel也在不断释放积极信号,表示获得重要客户支持的可能性很大,并强调14A工艺具备强大的竞争力。
在近期举行的一场高盛媒体与技术会议上,Intel负责规划与投资者关系的副总裁John Pitzer再次表达了对14A工艺的信心。他指出,公司在推进14A工艺过程中已从过往经验中吸取了教训,提升了整体执行效率。
相较于18A工艺,14A工艺的开发模式也有所不同。18A主要围绕Intel自身产品进行优化设计,而14A则从一开始就与外部合作伙伴共同参与开发,重点针对高性能计算和移动应用需求进行优化。
此外,Intel的晶圆代工团队正致力于达成一项目标:即便缺乏大规模外部订单,也能在2027年实现14A工艺的盈亏平衡。
按照此前公布的规划,14A是18A工艺的后续演进版本,将首次引入High NA EUV光刻机Twinscan EXE:5200B系列。这类光刻设备的单价接近4亿美元,约为当前EUV设备价格的1.5至2倍,因此14A工艺的成本相比18A也将明显上升。
不过,新工艺带来的性能提升同样显著。与上一代相比,14A工艺在每瓦性能方面预计可提升15%至20%,功耗降低25%至35%。同时,晶体管结构也进行了新的升级,在不增加芯片面积和不牺牲能效的前提下,进一步提升了运算速度。
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