功耗降低35% Intel重申14A工艺信心：已吸取18A工艺教训
9月10日消息，Intel今年底会量产18A工艺，这是该公司首款GAA结构的晶体管工艺，明年则会是关键的一年，因为要决定下一代14A工艺的命运。
Intel CEO陈立武之前提到过2026年如果没有大客户，14A工艺就不会建厂，这引发了外界对Intel停止建设先进工艺的担忧，但Intel另一面也在不断发布利好，表示没有大客户的几率很小，14A工艺很好很强大等等。
Intel公司规划与投资者关系副总裁John Pitzer日前在高盛媒体与技术大会上也再次强调了对14A的信心，表示Intel已经吸取了之前的教训。
18A工艺在开发过程中，主要是针对Intel自己的产品做优化，而14A不同，一开始就是与外部合作伙伴共同开发，直接针对HPC及移动应用做了优化。
他们的晶圆代工团队正在努力实现一个目标——不需要大量外部订单就能在2027年实现盈亏平衡。
根据Intel之前公布的信息，14A工艺是18A工艺的下一代，将首次使用High NA EUV光刻机Twinscan EXE：5200B系列，这种光刻机的价格接近4亿美元，是当前EUV光刻机的1.5-2倍，因此14A工艺比18A工艺要贵不少。
但是14A工艺的提升也很明显，每瓦性能提升15-20%，功耗降低25-35%，而且晶体管结构也有新的升级，在不牺牲面积或者功耗的情况下就能提高运行速度。
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