英特尔18A工艺突破2nm门槛，全球首发引领前沿
10月10日消息，Intel昨晚推出了Panther lake及Clearwater Forest两代产品，都使用了18A工艺，这是全美第一个2nm级别的先进工艺。
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实际上放在全球来说，台积电的2nm工艺产品还没有产品发布，Intel应该算是全球第一个推出2nm级工艺的半导体大厂，多年来被台积电、三星领先压得喘不过来气的局面总算缓解一点了。
这两款产品不论性能还是能效，表现还是不错的，Intel表示相比Intel 3工艺，18A每瓦性能提升15%，密度提升了30%。
18A工艺至少会用在未来三代产品中，Intel之前的说法是2030年之前都会继续打磨18A工艺，还会有增强版18A工艺。
18A工艺的芯片正式上市还要等明年1月份之后，但是整体下来可以说18A工艺已经过了第一道关——从工厂试产走向规模化量产，这背后是良率的提升，产能的爬坡等一系列问题的解决。
早些时候有传闻称18A的良率只有10%，现在来看这已经不攻而破，通常来说稳定生产需要70%以上的良率才能谈商业价值，否则成本高到无法接受。
不过Intel的18A也不是万事大吉了，代工业务不能只靠Intel自己的产品使用，还要有大客户采用才行，近期AMD、OpenAI及NVIDIA对Intel代工的态度都很谨慎，双方是有接洽，但下单太早了。
韩国Sangmyung大学系统半导体工程教授Lee Jong-hwan表示，不断提升良率是Intel唯一的出路，他们已经别无选择，只能重塑自己，否则生存会很困难。
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