英特尔18A工艺为自研专享,14A制程将开放对外代工

10月11日最新消息,英特尔在其"四年五代"工艺路线图中取得重大突破,正式公布了18A工艺的两款旗舰产品——面向消费级的Panther Lake和针对服务器市场的Clearwater Forest。
18A中的"A"所指的埃米(Ångström)单位彰显了这项工艺的前沿性,作为全球首个埃米级芯片制造技术,相当于传统1.8纳米级别的工艺突破。该工艺同时创新性地集成了GAA晶体管架构与PowerVia背部供电技术,在技术和能效方面实现多重跃升。
从Panther Lake已披露的性能数据来看,18A工艺确实表现抢眼:相较Intel 3制程实现15%的单瓦性能提升,同时晶体管密度提高了30%。特别值得注意的是,与大量采用台积电N3工艺的Lunar Lake不同,Panther Lake主要模块均由英特尔自家工艺打造,其中CPU核心全部采用18A工艺制造,基础版4单元Xe3核显同样由英特尔代工,仅高阶12单元Xe3核显部分交由台积电代工。
英特尔特别强调,18A工艺是专为自家产品线量身定制的技术方案,不仅进行了独家优化,而且暂时不会开放给外部客户使用,这与其他代工厂的商业模式形成鲜明对比。

这种策略解读空间颇大:既可以视为英特尔对自家技术的充分自信,专注于产品性能极致优化;同时也反映出行业客户对这项前沿工艺仍持观望态度。真正的转折点可能出现在2024年的14A工艺上,英特尔已明确表示14A将在研发初期就考虑外部代工需求,通过与合作伙伴的协同设计,专门针对高性能计算和移动应用场景进行优化。
根据现有资料,14A工艺预计带来15-20%的性能功耗比提升,同时降低25-35%的能耗。更值得关注的是,该工艺将首度采用单台造价近4亿美元的High NA EUV光刻机Twinscan EXE:5200B系列(价格约为现有EUV设备的1.5-2倍),这也意味着14A工艺的生产成本将显著高于18A。

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