ASML专项团队助力三星2nm芯片量产与良率提升
11月5日消息，当前业界最先进的2纳米全环绕栅极（GAA）晶圆制造工艺高度依赖极紫外光刻（EUV）设备，而这类核心设备的供应离不开荷兰企业阿斯麦（ASML）的技术支持。据了解，为协助三星在美国得克萨斯州泰勒市新建的半导体工厂顺利投产，阿斯麦正着手组建专项技术团队，专注于EUV设备的安装调试与启动支持工作。
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三星即将启动泰勒工厂的运营，初期生产重心将放在高性能人工智能芯片及其他先进半导体产品的量产上，首款计划推出的产品为Exynos 2600处理器。近期，阿斯麦在得克萨斯州奥斯汀地区发布了一则现场服务工程师的招聘信息，岗位职责中明确提到将参与“支持三星EUV设备的初期启动工作”。这一动向表明，阿斯麦已开始为该项目调配专业技术资源，强化现场技术支持力量。
业内人士指出，阿斯麦设立专门面向泰勒工厂的技术团队，标志着EUV设备的部署工作已进入实质性阶段，也意味着该工厂距离正式投产更近一步。目前，工厂基础设施建设已基本完成，设备进场和调试工作正有序展开。
除上述专项团队外，阿斯麦还在筹建另一支独立的现场服务队伍，负责在设备运抵后立即开展安装、校准与测试等关键流程。由于EUV光刻机在2纳米GAA工艺中具有不可替代性，若缺乏相关技术支持，三星将难以实现先进制程的稳定量产。
此前已有信息显示，三星已于9月底启动Exynos 2600的初步批量生产，但初始阶段月产能约为1.5万片晶圆，尚处于产能爬升期。随着设备逐步到位及工艺优化，产能有望持续提升。
另据消息透露，高通已获得采用2纳米GAA工艺打造的骁龙8 Elite Gen 5芯片样品，并正在进行性能与良率评估。若后续良率表现符合预期，三星有望成为高通新一代旗舰芯片的重要代工方之一。
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