iPhone 18 Pro渲染图出炉:挖孔屏或将终结于20周年款
11月15日消息,根据博主爆料的消息,明年的iPhone 18 Pro系列将首次缩小灵动岛面积,2027年亮相的20周年iPhone将会把Face ID和前摄全部置于屏幕下方,实现真面屏形态。有博主
11月15日消息,据博主爆料透露,明年即将推出的iPhone 18 Pro系列将首次缩小灵动岛面积,而更引人注目的是2027年亮相的20周年纪念款iPhone,它将把Face ID和前置摄像头全部隐藏在屏幕下方,实现真正无缝的全面屏设计。
有博主根据爆料信息绘制了iPhone 18 Pro和20周年款iPhone的渲染图,从图中可以清晰看到,这两代iPhone正面的挖孔区域正在逐步消失。

目前安卓阵营已经推出了多款屏下前摄机型,努比亚是这一技术的代表品牌,最新发布的红魔11 Pro系列以及努比亚Z80 Ultra都是真全面屏旗舰。以努比亚Z80 Ultra为例,该机采用纳米级高透材料与独立像素驱动技术,显著提升了屏下摄像头的透光率,最终实现了屏下镜头全场景完美隐藏的视觉效果。
相比努比亚的技术方案,苹果要实现真全面屏设计面临着更多挑战。不仅需要攻克屏下前摄的技术难题,还要将Face ID组件也置于屏幕下方,既要保证显示效果不受影响,又要兼顾人脸识别的精准度。
在此之前,苹果关于屏下Face ID的多项专利陆续曝光,其中最新专利展示了一项创新设计:通过移除部分子像素,让红外光更顺畅地穿透屏幕盖板,从而实现高效的屏下人脸识别功能。

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