日本半导体巨头TEL落选，台积电2nm供应商名单泄漏

11月27日消息，身为全球最先进的半导体芯片代工厂，台积电的核心技术机密很容易成为竞争对手的觊觎目标。近期最典型的案例莫过于前高管罗唯仁跳槽英特尔引发的风波，而就在两个月前，另一起牵涉日本半导体巨头的事件同样引发了广泛关注。

此次事件的焦点是日本KEL威力科创公司。该公司一名陈姓员工曾在台积电任职，离职后加入日本半导体设备巨头TEL，却仍通过原先的同事关系获取了大量台积电技术资料，其中甚至包含2纳米工艺的关键信息。最终台积电通过监控系统发现异常，随后该员工被逮捕，并于今年8月被法院宣判。

事发后，威力科创立即解雇了涉事员工，并在最新公告中声明：经过公司内部彻查，目前尚未发现相关机密信息外泄至第三方，也未发现有任何组织性指使该前员工获取不当信息的行为。

此后业界传闻TEL高层及社长等管理团队曾两度赴台积电负荆请罪。尽管如此，这起事件仍然对他们与台积电的合作关系造成了影响。近日台积电公布年度优秀供应商名单时，TEL公司就未能出现在榜单之中。

台积电在日前举办的供应链管理论坛上披露的这份名单，旨在表彰合作伙伴在推进2纳米等先进制程与封装技术的研发、优化及产能扩建工作中的重要贡献，这些企业持续助力台积电拓展全球生产布局。

这份企业名单中，包含了阿斯麦、应用材料、科磊、泛林集团等全球半导体设备巨头。TEL作为三大蚀刻设备供应商之一，以往也曾多次入选，但此次落选显然并非因为其产品竞争力不足——很大程度上受到了这起泄密事件对供应商评价体系的影响。

不过业界分析认为，台积电也不太可能完全终止与TEL的合作。目前能够生产用于2纳米及更先进工艺蚀刻设备的厂商本就有限，若放弃TEL就意味着只能选择科磊、泛林两家美国公司，这显然不利于台积电在与供应商谈判时保持优势地位。