ASML新一代EUV光刻机性能解析：中国留学生关键技术贡献揭晓

2月25日消息，荷兰ASML公司是目前全球唯一能够量产EUV光刻机的企业。然而，现有的EUV技术仍面临诸多挑战，尤其是光源功率不足的问题，严重制约了产能的进一步提升。

日前，ASML宣布了一项重要突破：成功将EUV光源功率翻倍提升至1000W，实现了革命性的性能飞跃。详细技术介绍可参考早前报道：ASML全新EUV光刻机性能暴增！1000W功率结合50%效率提升，产能同步增加50%。

简单来说，当前EUV光刻机的功率大约在600W左右，导致每小时晶圆产量仅为220片。而在功率提升至1000W后，产能将跃升至每小时330片晶圆。

实现这一突破的关键在于技术革新：ASML采用1微米的预脉冲取代了原先10微米的预脉冲，同时将锡滴喷射频率从每秒5万次提高到10万次。这样一来，就能产生更多的极紫外光。

这项技术不仅能够达到1000W的功率水平，未来还有望进一步提升至1500W甚至2000W级别。这意味着EUV光刻机的效率和产能将持续增长，从而大幅降低EUV芯片的生产成本。

不过，目前该技术尚未投入量产，预计仍需数年时间才能实现商业化应用。

总而言之，ASML此次公布的EUV技术进展，意味着他们在这方面的技术优势再次扩大，其他竞争者想要挑战的难度也随之大增。

值得一提的是，这项技术诞生的背后，研发团队中除了欧美人员外，还包括多位中国研究员。论文的多位作者中有Qiushi Zhu、Yue Ma以及Haining Wang，其中Haining Wang不仅是排名第一的作者，也是这篇论文的宣讲者。

从Haining Wang的履历来看，他二十多年前曾获得国家优秀自费留学生奖，2016年于美国康奈尔大学获得博士学位，同年加入ASML公司。在EUV研究部门中，他担任科学家兼架构师，专注于研究LPP等离体技术路线的成果和基础物理。