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俄罗斯企业成功研制150nm电子束直写光刻原型机

俄罗斯企业成功研制150nm电子束直写光刻原型机

热心网友 时间:2026-07-25
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俄罗斯泽列诺格勒纳米技术中心成功开发150nm电子束直写光刻原型系统“ProgressELL150”,正对两套原型进行为期4个月的初步测试。电子束光刻无需掩模版,适合小批量生产,主要用于掩模制造。该技术或可满足航天和国防工业芯片需求。

最近俄罗斯传来一则引人关注的消息。据当地媒体CNews报道,位于泽列诺格勒的纳米技术中心,已于今年6月成功研制出一套150纳米电子束直写光刻原型系统,设备命名为"Progress ELL 150"。这一名称本身就透露出浓厚的技术感。

目前,研发团队正对两套原型系统展开为期四个月的初步测试。待这一轮测试完成后,才会进一步评估其图案化精度及其他关键技术指标。简单来说,该系统仍处于验证阶段,但其进展已经引发了业界广泛的好奇与关注。


电子束光刻技术,本质上无需掩模版即可在硅片上绘制电路图案,特别适合小批量、灵活多变的芯片制造需求,但在大规模量产方面效率较低。在传统半导体制造流程中,该技术主要应用于掩模生产——即为其他光刻设备制作“模板”使用。

不过需指出的是,俄罗斯航天及国防工业所需的芯片,本身需求量并不大,因此采用电子束光刻技术进行制造,反而可能实现成本可控,并具备商业化落地潜力。尽管从技术代际上看,这套设备并不算先进,但在特定应用场景中,合适与否往往比参数高低更为关键。

来源:https://www.163.com/dy/article/L2KC1SQS0511B8LM.html

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