LG发力半导体封装:液态与薄膜PID双方案布局后端材料

LG化学近日发布消息,成功研发出应用于半导体封装的液态感光绝缘材料(Photo Imageable Dielectric,简称PID),正式进军人工智能及高性能半导体市场。这款突破性材料作为半导体先进封装工艺的核心组件,通过在芯片与基板间构建微电路并形成电信号传输通道,显著提升了电路精密程度及器件可靠性。
随着半导体行业对高精密电路需求的持续增长,PID材料的战略价值愈发凸显。LG化学推出的液态PID产品具备三大技术优势:其一,支持高分辨率图形化处理,可在低温环境下稳定固化;其二,材料收缩率与吸湿率极低,确保工艺稳定性;其三,完全不含PFAS(全氟及多氟烷基化合物)、NMP(N-甲基吡咯烷酮)及甲苯等有害物质,全面符合国际环保法规要求。
针对大尺寸基板封装面临的热膨胀开裂难题,LG化学同步开发了薄膜型PID解决方案。该材料通过四项核心技术突破实现性能跃升:在12英寸及以上基板上可保持纳米级厚度均匀性;通过高弹性配方将热循环开裂风险降低40%;吸湿率较传统材料减少60%;可直接适配现有层压设备,无需对产线进行改造。这些特性使其成为7纳米及以下先进制程封装的理想选择。
在产品线布局方面,LG化学正系统性扩大半导体后端材料矩阵。除PID系列外,其研发体系已覆盖四大关键领域:用于高速信号传输的覆铜板(CCL)、实现芯片高密度贴装的粘接膜(DAF)、防止层间短路的非导电膜(NCF),以及构建三维封装的积层膜(BUF)。这些材料共同构成从晶圆级到系统级封装的完整解决方案。
据技术白皮书披露,LG化学的半导体材料研发中心已投入运营,配备百级洁净室及原子层沉积(ALD)设备。通过与全球十大封测厂商的联合验证,其薄膜型PID产品良率突破99.7%,较传统材料提升1.2个百分点。目前该材料已通过某国际IDM大厂的量产认证,预计2024年第四季度实现规模化供货。
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