1.1亿元光刻机中标解析:分辨率低于110nm的关键因素
12月25日消息,国产光刻机的每一步进展都备受瞩目,任何新动态都能迅速成为业界焦点。今天,一则关于上海微电子中标光刻机的采购信息,再次引发了广泛关注。
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在中国政府采购网上,一份编号为zycgr22011903的采购公告显示,科技部以单一来源方式采购了一台步进扫描式光刻机,中标金额约为1.099亿元,中标方为上海微电子公司,货物型号为SSC800/10。

截至发稿时,这份中标公告虽然仍在网站上,但其详情页面已经无法打开了。
上海微电子的SSC800型号此前并未公开披露过。有印象的网友或许还记得,前两年网络上曾流传过SSA800的型号,据称是一台28nm光刻机。SSC800的型号命名与这个系列一脉相承,很可能是采用同期技术的产品。
不过,严格来说,“28nm光刻机”的说法并不准确,至少是不严谨的。光刻机一次曝光的分辨率并没有那么高。SSC800的分辨率为110nm,套刻精度则为15nm。

2024年9月,工信部曾公布《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。其中提到的氟化氩光刻机有两种,光源均为193纳米。其中,浸没式型号的分辨率≤65nm,套刻精度≤8nm;而干法型号的分辨率≤110nm,套刻精度≤25nm。
此次上海微电子中标的型号,应该属于干法光刻机,并非大家预期中那种技术指标非常顶尖的产品。


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