SK海力士无锡厂1a纳米DRAM制程升级完成
1月19日消息,据韩国媒体报道,SK海力士已于近期完成对中国江苏无锡DRAM内存晶圆厂的制程升级工作,主要生产工艺已由1z纳米(第三代10纳米级)正式过渡至1a纳米(第四代10纳米级)。该工厂承担了

1月19日,韩国媒体报道称,SK海力士近期已顺利完成其位于中国江苏无锡的DRAM内存晶圆厂的制程升级。工厂核心生产工艺正式从1z纳米(第三代10纳米级别)过渡到更先进的1a纳米(第四代10纳米级别)。该工厂承担着SK海力士约三分之一的DRAM产能,在当前每月18万至19万片12英寸晶圆的投片规模中,已有约九成采用1a纳米工艺进行制造。
由于1a纳米制程需要依赖EUV光刻技术,而相关设备受到出口管制限制,无锡厂区生产的1a纳米产品需运往韩国完成部分关键工序。这一安排既确保了先进制程产品的持续推进,也兼顾了合规要求。
对于此项报道,SK海力士方面未作公开回应。
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