台积电回应已购入High-NA EUV光刻机但暂不量产
台积电董事长魏哲家近日澄清了关于公司不愿投资下一代光刻设备的传言。他表示，台积电已购入ASML最新的High-NAEUV光刻机，单价约3 8亿至4亿美元，但因成本过高，现阶段暂不投入量产。公司策略是先充分利用现有EUV设备，该设备结合多重图案化技术仍可满足先进制程需求。台积电已于2024年9月将首
针对外界传言台积电因保守而拒绝投资下一代光刻设备，董事长魏哲家在近日股东大会上亲自澄清。他表示，公司已购入最新的High-NA EUV光刻机，并正积极进行研发。然而，基于成本考量，现阶段暂不将其投入量产环节。这一表态明确了台积电对这项尖端技术的当前布局策略。
由ASML研发的最新High-NA EUV光刻机，每台单价高达3.8亿至4亿美元，是当前主流EUV设备价格的两倍多。魏哲家坦言，设备过于昂贵是暂不用于大规模生产的主因。台积电目前的策略是优先充分利用好手中现有的EUV光刻设备，通过成熟技术满足市场需求。
现有技术足以支撑先进制程需求
魏哲家强调，现有EUV光刻机结合多重图案化等先进技术，仍足以支撑2纳米及更先进制程的微缩需求。这使台积电拥有充分底气，可等待High-NA EUV技术经济性更优时再大规模部署。这种审慎的成本控制策略，符合其一贯的经营纪律。
研发先行确保未来顺利投产
实际上，台积电早在2024年9月就已接收首台High-NA EUV光刻机，并安置于研发中心，专门用于开发下一代工艺所需的基础光刻技术。魏哲家认为，提前启动研发准备至关重要，可确保未来决定投产时迅速达到可靠良率与理想产出效率。但他也坦言，要将这台价值4亿美元的顶级设备真正投入生产线，还需等待更合适的时机。
与英特尔等竞争者已将High-NA EUV提上量产日程的策略不同，台积电选择了“先研发、后投产”的稳妥路线。魏哲家预计，当真正需要单次曝光实现更细微线宽，且晶圆生产成本开始具备竞争力时，High-NA EUV技术将自然融入生产体系。
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