12英寸硅光芯片流片平台国产化,首片已正式投用
11月11日消息,据"中国光谷"微信公众号发布的信息,我国首条基于12英寸40nm CMOS工艺线的硅光PDK(工艺设计套件)、TDK(测试设计套件)与ADK(封装设计套件)全流程服务平台日前在光谷正式启用。
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该平台由国家信息光电子创新中心(NOEIC)负责建设运营,标志着光谷企业在硅光领域实现了又一项关键技术突破。
业内专家解释,传统芯片依赖电子传输数据,就如同汽车货运;而硅光芯片则让光子穿梭于光纤之中,化身为"光速高铁"。
该平台创新构建了硅光MPW服务模式,通过将多个芯片设计集成在同一晶圆上进行流片,实现成本分摊,大幅降低了研发门槛。
国家信息光电子创新中心硅光芯片
平台基于40nm制程的硅光PDK1.0在加工精度、波导损耗、光耦合效率等关键指标上均达到商用要求,整体性能达到国际先进水平。
据了解,除PDK外,平台还集成了TDK和ADK,可提供从芯片集成设计到封装验证的全流程支撑,满足科研成果转化和产品研制过程中的快速迭代需求。
国家信息光电子创新中心硅光芯片加工场景
近年来随着技术成熟与AI需求爆发,硅光芯片在人工智能、大数据等前沿产业领域迎来大规模应用。
咨询机构LightCounting预测,到2030年硅光芯片在光通信芯片市场的占比将增长至60%。
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