光谷首发40纳米硅光PDK平台,加速国内光子芯片研发
2025年11月11日,国内首个基于12英寸40纳米CMOS工艺的全自主硅光子PDK(工艺设计套件)、TDK(测试设计套件)与ADK(封装设计套件)流片服务平台已在光谷正式投入使用。该平台由国家信息

2025年11月11日,我国首套基于12英寸40纳米CMOS工艺的全自主研发硅光PDK(工艺设计套件)、TDK(测试设计套件)与ADK(封装设计套件)流片服务平台正式在光谷启用。该平台由国家信息光电子创新中心负责建设与运营,标志着我国在硅光技术领域再次取得关键突破。
传统集成电路依赖电子传输数据,就好比用卡车运送货物,而硅光芯片则利用光子在光纤中高速传导,如同构建了一条“光速高铁”,能够大幅提升信息传递效率。值得注意的是,此次投用的平台创新性引入硅光MPW(多项目晶圆)服务模式,支持将多种不同设计整合至同一晶圆进行流片,实现资源共享与成本分摊,显著降低了技术研发与验证的门槛。
基于40纳米制程开发的硅光PDK1.0已具备成熟的商用能力,其在加工精度、波导损耗控制以及光耦合效率等核心性能指标均达到国际先进水平。该平台不仅提供完整的PDK支持,还同步集成了TDK与ADK工具,形成了从芯片设计、流片制造到测试验证乃至封装集成的全链条服务体系,为科研成果转化与产品快速迭代提供了坚实支撑。
随着技术不断成熟,加上人工智能、大数据等新兴产业对高带宽、低延迟通信需求的持续增长,硅光芯片正加速迈向规模化应用阶段。行业分析显示,到2030年,硅光芯片在全球光通信芯片市场的份额有望提升至60%,成为未来信息基础设施的重要组成部分。
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