国产光刻机突破：芯上微装首发350nm步进式机型投产
11月26日，上海芯上微装科技股份有限公司宣布，其自主研发的首台350nm步进光刻机（型号AST6200）已全面完成出厂调试与验收，正式启程发往客户现场。
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芯上微装表示，这一重要进展标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次取得关键性突破。
据介绍，AST6200光刻机是芯上微装倾力打造的全自主可控步进式光刻设备，专为功率半导体、射频芯片、光电子器件及Micro LED等应用场景量身定制。
该设备具备高分辨率成像能力，可满足先进工艺需求，搭载大数值孔径投影物镜，结合多种照明模式与可变光瞳技术，实现350nm高分辨率，完全适应当前主流的化合物半导体芯片光刻工艺要求。
通过高精度套刻配置与高精度对准系统，该设备可实现正面套刻80nm、背面套刻500nm的精度，确保多层图形精准套刻，有效提升器件良率。
值得一提的是，AST6200还搭载了芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统，从底层驱动到上层工艺管理实现完全自主化，掌握核心技术主动权。
公开资料显示，芯上微装成立于2025年2月，是一家专注于高端半导体装备研发、生产和服务的创新型科技企业，目前主力产品包括晶圆级先进封装光刻机、激光退火设备和前道晶圆缺陷检测设备。
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