Intel率先安装二代高NA光刻机：为14A工艺铺路
12月18日消息，近日，Intel宣布已安装ASML最新的TWINSCAN EXE:5200B光刻系统，这是全球首套、也是目前最先进的第二代High-NA EUV光刻系统，将用于Intel 14A节
12月18日消息，英特尔近期宣布，已完成其首台ASML最新款TWINSCAN EXE:5200B光刻系统的安装。这套设备不仅是全球第一套，也是目前最先进的第二代高数值孔径极紫外光刻系统，将被用于英特尔未来14A工艺节点的芯片制造。
此前，英特尔已在2024年底接收了首台高数值孔径极紫外光刻机EXE:5000，并在俄勒冈州的D1X工厂完成了前期的技术研发与人才储备工作。而此次落户的EXE:5200B系统，则在生产能力和精度上实现了进一步提升。
英特尔表示，在与ASML的紧密合作下，已经成功验证了这套尖端光刻设备的先进性能。它在提升精度与产能方面的技术可行性得到了证明，为高数值孔径极紫外光刻设备未来的大规模制造奠定了基础。
根据最新资料，EXE:5200B在标准条件下的产能可达每小时175片晶圆。但英特尔计划通过进一步的系统优化调整，将产出率推高至每小时200片晶圆以上。
新系统还建立在英特尔过去一年多使用高数值孔径极紫外光刻设备的经验之上，将套刻精度提升至0.7纳米。
英特尔强调，高数值孔径极紫外光刻设备是其晶圆代工业务中的核心能力。它结合了英特尔在掩模、蚀刻、解析度增强和计量等相关领域的技术专长，能够达成当今芯片制造所需的更精细的晶体管细节。
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