中微公司董事长尹志尧：54种高端设备，刻蚀薄膜精度达原子级

2026年8月2日，中微公司迎来了一场意义非凡的庆典——位于上海总部的“中微大厦”正式落成，同时恰逢公司成立22周年。这一重要时刻，对于一家在半导体设备领域深耕多年的企业而言，既是发展里程碑，也是全新起点。

首先，我们来了解中微公司的背景：这是一家专注于微观加工高端设备的半导体企业，总部位于上海，其自主研发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备，能够加工微米级乃至纳米级的各类器件。简而言之，这些设备正是芯片制造过程中不可或缺的核心工具。

庆典上，公司创始人、董事长兼总经理尹志尧发表了重要演讲，透露了诸多关键信息。他介绍，中微公司目前已研发出54种高端半导体设备，包括26种高能/低能等离子体刻蚀机，以及24种薄膜、化学机械抛光、量检测等设备。尤为重要的是，刻蚀和薄膜设备的加工精度已提升至原子级水平——这意味着在微观世界的操控上，我们正不断逼近物理极限。截至2026年6月底，公司累计已有超过8800个反应台在国内外220余条生产线投入量产，这一数据充分证明了其技术实力和市场认可度。

再来看经营数据：自2012年以来，中微公司已连续14年保持平均年销售增长率超过35%，人均年销售额达到450万元，与国际领先设备公司处于同一水平。值得注意的是，中微的人均成本不到国际同行的一半。换言之，其劳动生产率远高于竞争对手——这一成就并非仅依赖价格优势，而是源于卓越的效率和管理能力。

在研发投入方面，2025年中微公司投入约37.4亿元，占全年营收的30.2%，远高于科创板上市公司的平均水平。这一比例在全球半导体设备行业中同样处于第一梯队。展望未来三到五年，中微计划累计投入约130亿元研发资金，目标开发上百种新型高端设备。从54种到上百种，这一发展路径既稳健又充满进取心。